| 产品特性：高纯度 | 品名：镍铬合金 | 牌号： NiCr20 wt% |
| 产地：北京 | 镍含量：80% | 杂质含量：0.5% |
| 粒度：根据客户需求目 | 尺寸：50*200*18 | 纯度：99.5% |
声明
由于原材料价格波动较大，且产品价格与产品尺寸、纯度等因素密切相关，请广大用户下单前务必咨询客服，否则概不发货！谢谢您的理解与支持！
我们是专业生产靶材的工厂，镍铬靶是我们工厂接单最多的产品，我们各种纯度、形状、成分的镍铬靶都可以定制。
我们能提供的成分：NiCr7 wt%、NiCr10 wt%、NiCr20 wt%、NiCr30 wt%、 NiCr40 at%、NiCr44 wt%、NiCr50 wt%、NiCr60 wt%、NiCrCu、NiCrFe、NiCrCuFe、NiCrAl、NiCrAlY、NiWCr、NiCrAlYHf、NiCrAlYSi、NiCoCrAlY、NiCoCrAlYHfSi、NiCoCrAlYTa等...
我们能提供的纯度：99.5%、99.7%、99.8%、99.9%、99.95%、99.***
我们的提供的形状：平面靶，柱状靶，电弧靶，异型靶，形状可以根据客户需要进行定制。
我们生产的镍铬靶材杂质元素含量：
纯度 | 杂质（ppm）≤ | |||||||
Cr | Fe | Al | Si | C | N | O | S | |
99.5 | 20±1.0 | 2500 | 1000 | 1500 | 150 | 100 | 200 | 100 |
99.7 | 20±1.0 | 1500 | 800 | 1000 | 150 | 100 | 200 | 100 |
99.8 | 20±1.0 | 1200 | 300 | 600 | 150 | 100 | 200 | 100 |
99.9 | 20±1.0 | 600 | 200 | 500 | 100 | 100 | 200 | 50 |
99.95 | 20±1.0 | 200 | 100 | 200 | 100 | 100 | 200 | 50 |
我们工厂镍铬靶材生产流程：
我们生产的镍铬靶材参数：
| 电阻率 | 108 ?Ohmcm |
| 温度系数 | 0.00005 K?? |
| 断裂伸度 | <40.0% |
| 抗拉强度 | 650.00 - 1100.00 MPa |
| 密度 | 8.400 g/cm?? |
| 热膨胀系数 | 14.000 x10??K?? |
| 使用温度 | 1150 - 1250°C |
| 熔点 | 1400.00°C |
| 导热系数 | 13.40 Wm??°C?? |
镍铬合金具有很好的抗氧化、耐蚀的性能，适应温度变化的范围广，应用在膜层或工件表面起到保护膜层和工件的作用。 汽车镀膜是在镜头表面镀上非常薄的透明薄膜，目的是希望减少光的反射，增加透光率，并抑低耀光、鬼影；不同颜色的镀膜，也使成像色彩平衡不同。此外，镀膜也可延迟镜片老化、变色的时间。
Low-E玻璃又称低辐射玻璃，是在玻璃表面镀上多层金属或其他化合物组成的膜系产品。其镀膜层具有对可见光高透过及对中远红外线高反射的特性，使其与普通玻璃及传统的建筑用镀膜玻璃相比，具有优异的隔热效果和良好的透光性。普通镀膜玻璃的辐射***达0.84，当镀上一层以银为基础的低辐射薄膜后，其辐射率可降至0.1以下。Low-E玻璃对太阳光中可见光有高的透射比，可达80%以上，而反射比则很低，这使其与传统的镀膜玻璃相比，光学性能大为改观。镍铬合金薄膜通常放在镀膜玻璃的功能性膜层的外面，起到耐蚀、抗氧化的作用，使膜层的使用寿命***。
使用镍铬合金为源料的电阻薄膜具有电阻率较高、电阻温度系数低、灵敏系数高，且对温度依赖小等特点。由于镍铬合金电阻薄膜制备工艺成熟、使用历史悠久，因此应用较广，主要用于制备混合集成电路中的精密电阻薄膜，其能满足电阻应变计敏感薄膜的性能要求，因此常用于制备薄膜电阻应变计。
在真空镀膜行业，NiCr合金靶材和薄膜被应用于耐磨、抗蚀、耐热等表面保护薄膜以及电阻薄膜，涉及低辐射玻璃、微电子、磁记录、半导体和薄膜电阻等不同领域。
北京瑞弛的研发团队对任意比例的NiCr合金进行了深入研究，我们的产品Cr含量从5%一直到80%均可以提供，典型产品有：Ni-5Cr wt%，Ni-7Cr wt%, Ni-20Cr at%，Ni-20Cr wt%, Ni-30Cr wt%，Ni-40Cr at%, Ni-40Cr wt%，Ni-44Cr wt%, Ni-50Cr wt%，Ni-60Cr wt%等,并且有99.5%，99.7%，99.8%，99.9%，99.95%，99.***等多个纯度可供选择。我们的产品售于五湖四海，包括美国，日本，韩国，西欧，东南亚，台湾等多个国家和地区，应用于大面积玻璃镀膜、汽车装饰镀膜、电阻镀膜、磁记录和集成电路等领域。
